Equipement de dépôt de couche mince par CVD assisté par plasma atmosphérique - UL-Coat
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AcXys Technologies propose le module UL-Coat qui permet de réaliser des dépôts de couches minces (SiO2, SiOx,...) par CVD (Chemical Vapor Deposition) à pression atmosphérique :
- Couche barrière
- Couche hydrophobe
- Couche anti-corrosion
- Couche optique
Le dépôt peut être très localisé ou homogène sur des grandes dimensions.
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